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A study on application of a silicon-on-insulator structure to pressure sensors

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目次・巻号

  • A study on application of a silicon-on-insulator structure to pressure sensors [254]
    • TABLE OF CONTENTS/p15
    • ABSTRACT(in Japanese)/p2
    • ABSTRACT(in English)/p4
    • ACKNOWLEDGMENTS/p6
    • LIST OF FIGURES/p7
    • LIST OF TABLES/p13
    • LIST OF APPENDICES/p14
    • CHAPTER/p1
    • I.GENERAL INTRODUCTION/p1
    • 1.1 Background/p1
    • 1.2 Applications of a SOI Structure/p7
    • 1.3 Objectives of the Present Research/p9
    • References/p12
    • II.SILICON PIEZORESISTIVE PRESSURE SENSORS/p15
    • 2.1 Introduction/p15
    • 2.2 Piezoresistance in Si/p17
    • 2.3 Thin Diaphragm Pressure Sensors Utilizing Shear Piezoresistance/p25
    • 2.4 Design Considerations/p33
    • 2.5 Conclusion/p37
    • References/p39
    • III.FORMATION OF A SOI STRUCTURE/p43
    • 3.1 Introduction/p43
    • 3.2 Si/SiO₂/Si Structures by Si-Wafer Direct Bonding/p48
    • 3.3 Evaluation of a SOI Structure/p64
    • 3.4 Epitaxially Stacked Si/Al₂O₃/Si Structures/p71
    • 3.5 Evaluation of Epitaxially Grown A₂O₃ and Si Films/p76
    • 3.6 Conclusion/p78
    • Reference/p80
    • IV.ELECTRICAL AND MECHANICAL PROPERTIES OF THIN SOI FILMS/p87
    • 4.1 Introduction/p87
    • 4.2 Single-Crystalline SOI MOS Devices/p88
    • 4.3 Piezoresistance Effect of SOI Films/p102
    • 4.4 Conclusion/p120
    • References/p122
    • V.HIGH-RESOLUTION PRESSURE SENSORS/p126
    • 5.1 Introduction/p126
    • 5.2 Thin Diaphragm Formation/p127
    • 5.3 Sensor Fabrication/p134
    • 5.4 Sensor Characteristics/p144
    • 5.5 Conclusion/p151
    • References/p153
    • VI.HIGH-TEMPERATURE PRESSURE SENSORS/p159
    • 6.1 Introduction/p159
    • 6.2 Requirement Conditions of a High Temperature Sensing-Element/p162
    • 6.3 Sensor Fabrication/p174
    • 6.4 Sensor Characteristics/p179
    • 6.5 Conclusion/p187
    • References/p189
    • VII.HIGH-PERFORMANCE PRESSURE SENSORS WITH DOUBLE S0I STRUCTURES/p195
    • 7.1 Introduction/p195
    • 7.2 Description of Proposed Sensor Structure/p196
    • 7.3 Sensor Fabrication/p199
    • 7.4 Evaluation of Double SOI films/p202
    • 7.5 Sensor Characteristics/p204
    • 7.6 Conclusion/p209
    • References/p211
    • VIII.SUMMARY AND SUGGESTIONS FOR FUTURE RESEARCH/p217
    • APPENDICES/p222
    • LIST OF PAPERS CONCERNED WITH THIS DISSERTATION/p231

書誌情報

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https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3089242/1

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