レーザを用いたインプロセス形状測定技術の研究
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目次・巻号
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↓ レーザを用いたインプロセス形状測定技術の研究 [152] -
・ 論文要旨 -
・ 目次/p1 -
・ 第1章 緒言/p1 -
・ 第2章 インプロセス形状測定におけるレーザ適用の問題点と解決の方策/p3 -
・ 2.1 インプロセス形状測定におけるレーザ適用の現状/p3 -
・ 2.2 インプロセス形状測定におけるレーザ適用の問題点/p8 -
・ 2.3 問題点解決のための基本方策/p10 -
・ 〔第2章の参考文献〕/p13 -
・ 第3章 幾何光学的方法によるマクロ形状の測定-高炉内原料面形状のインプロセス測定-/p16 -
・ 3.1 研究の目的と従来技術/p16 -
・ 3.2 従来技術の問題点/p20 -
・ 3.3 レーザ方式の特長と測定原理/p21 -
・ 3.4 問題点解決のための各種新技術/p27 -
・ 3.5 小型高炉用システムへの適用/p30 -
・ 3.6 大型高炉用システムへの適用/p34 -
・ 3.7 装置性能の評価/p42 -
・ 3.8 測定結果の操業への活用/p43 -
・ 3.9 第3章のまとめ/p48 -
・ 〔第3章の参考文献〕/p49 -
・ 第4章 波動光学的方法によるミクロ形状の測定-鋼板表面粗度および光沢のオンライン測定-/p50 -
・ 4.1 研究の目的と従来技術/p50 -
・ 4.2 従来技術の問題点/p53 -
・ 4.3 粗面による光散乱の理論的考察と新知見/p56 -
・ 4.4 光反射強度および粗度測定実験/p68 -
・ 4.5 オンライン粗度測定システムの開発と操業への活用/p78 -
・ 4.6 粗度測定に関するまとめ/p82 -
・ 4.7 光沢測定の必要性と従来技術の問題点/p83 -
・ 4.8 光沢と粗度の相関関係の実験的考察と新知見/p84 -
・ 4.9 オンライン光沢測定システムの開発と操業への活用/p88 -
・ 4.10 光沢測定に関するまとめ/p91 -
・ 4.11 第4章のまとめ/p92 -
・ 〔第4章の参考文献〕/p93 -
・ 第5章 分光学的方法による低濃度ガスの密度分布形状測定-プラズマCVDプロセスにおけるSiHラジカルの測定-/p94 -
・ 5.1 研究の背景と目的/p94 -
・ 5.2 従来技術とその問題点/p98 -
・ 5.3 プラズマ中ラジカル検出へのレーザ誘起蛍光法の適用/p100 -
・ 5.4 レーザ誘起蛍光法によるSiH密度分布形状の測定/p106 -
・ 5.5 発光分光法データのAbel逆変換/p109 -
・ 5.6 発光分光法データのAbel逆変換よる[化学式]密度分布形状の産出/p114 -
・ 5.7 SiHおよび[化学式]密度分布の基板温度依存性測定への応用/p118 -
・ 5.8 第5章のまとめ/p130 -
・ 〔第5章の参考文献〕/p132 -
・ 第6章 結論/p135 -
・ 〔謝辞〕/p140
-
書誌情報
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- 永続的識別子
- info:ndljp/pid/3089246
- タイトル
- レーザを用いたインプロセス形状測定技術の研究
- 著者
- 浅野有一郎 [著]
- 出版年月日
- 1992
- 請求記号
- UT51-92-L404
- 書誌ID(国立国会図書館オンラインへのリンク)
-
000000251678
- DOI
- 10.11501/3089246
- 公開範囲
-
国立国会図書館/図書館送信参加館内公開
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- 資料種別 (materialType)
-
Book
Manuscript
DoctoralDissertation - タイトル (title)
-
レーザを用いたインプロセス形状測定技術の研究
- タイトルよみ (titleTranscription)
-
レーザ オ モチイタ インプロセス ケイジョウ ソクテイ ギジュツ ノ ケンキュウ
- 著者 (creator)
-
浅野有一郎 [著]
- 著者標目 (creator)
-
浅野, 有一郎
- 著者よみ (creatorTranscription)
-
アサノ, ユウイチロウ
- 出版年月日(W3CDTF形式) (issued:W3CDTF)
-
1992
- フォーマット(IMT形式) (format:IMT)
-
image/jp2
- 内容記述 (description)
-
博士論文
博士論文 - 授与大学名 (degreeGrantor)
-
豊橋技術科学大学
- 授与大学名よみ (degreeGrantorTranscription)
-
トヨハシ ギジュツ カガク ダイガク
- 博論報告番号 (dissertationNumber)
-
乙第28号
- 授与年 (dateGranted)
-
平成4年3月11日
- 学位 (degreeName)
-
工学博士
- 永続的識別子 (identifier:NDLJP)
-
info:ndljp/pid/3089246
- URL (identifier:URI)
-
https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3089246
- DOI (identifier:DOI)
-
10.11501/3089246
- NDL請求記号 (callNumber)
-
UT51-92-L404
- 原資料のNDL書誌ID (sourceIdentifier:NDLBibID)
-
000000251678
- NDLC (subject:NDLC)
-
UT51
UT31 - コレクション情報 (type:collection)
-
博士論文
- デジタル化出版者 (digitizedPublisher)
-
国立国会図書館
- 提供者 (provider)
-
大規模デジタル化(博士論文)
- 提供制限 (accessRights)
-
国立国会図書館/図書館送信限定公開
- 公開範囲 (rights)
-
国立国会図書館/図書館送信参加館内公開
- 階層レベル (type:biblevel)
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0
- サムネイルURL (thumbnailUrl:thumbnailUrl)
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https://dl.ndl.go.jp/titleThumb/info:ndljp/pid/3089246
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- 出版地(国名コード) (publicationPlace:ISO3166)
-
JP
- 授与大学 (degreeGrantor:JISX0408)
-
0085
- 目次 (tableOfContents)
-
論文要旨 / (0003.jp2)
目次 / p1 (0008.jp2)
第1章 緒言 / p1 (0011.jp2)
第2章 インプロセス形状測定におけるレーザ適用の問題点と解決の方策 / p3 (0013.jp2)
2.1 インプロセス形状測定におけるレーザ適用の現状 / p3 (0013.jp2)
2.2 インプロセス形状測定におけるレーザ適用の問題点 / p8 (0018.jp2)
2.3 問題点解決のための基本方策 / p10 (0020.jp2)
〔第2章の参考文献〕 / p13 (0023.jp2)
第3章 幾何光学的方法によるマクロ形状の測定-高炉内原料面形状のインプロセス測定- / p16 (0026.jp2)
3.1 研究の目的と従来技術 / p16 (0026.jp2)
3.2 従来技術の問題点 / p20 (0030.jp2)
3.3 レーザ方式の特長と測定原理 / p21 (0031.jp2)
3.4 問題点解決のための各種新技術 / p27 (0037.jp2)
3.5 小型高炉用システムへの適用 / p30 (0040.jp2)
3.6 大型高炉用システムへの適用 / p34 (0044.jp2)
3.7 装置性能の評価 / p42 (0052.jp2)
3.8 測定結果の操業への活用 / p43 (0053.jp2)
3.9 第3章のまとめ / p48 (0058.jp2)
〔第3章の参考文献〕 / p49 (0059.jp2)
第4章 波動光学的方法によるミクロ形状の測定-鋼板表面粗度および光沢のオンライン測定- / p50 (0060.jp2)
4.1 研究の目的と従来技術 / p50 (0060.jp2)
4.2 従来技術の問題点 / p53 (0063.jp2)
4.3 粗面による光散乱の理論的考察と新知見 / p56 (0066.jp2)
4.4 光反射強度および粗度測定実験 / p68 (0078.jp2)
4.5 オンライン粗度測定システムの開発と操業への活用 / p78 (0088.jp2)
4.6 粗度測定に関するまとめ / p82 (0092.jp2)
4.7 光沢測定の必要性と従来技術の問題点 / p83 (0093.jp2)
4.8 光沢と粗度の相関関係の実験的考察と新知見 / p84 (0094.jp2)
4.9 オンライン光沢測定システムの開発と操業への活用 / p88 (0098.jp2)
4.10 光沢測定に関するまとめ / p91 (0101.jp2)
4.11 第4章のまとめ / p92 (0102.jp2)
〔第4章の参考文献〕 / p93 (0103.jp2)
第5章 分光学的方法による低濃度ガスの密度分布形状測定-プラズマCVDプロセスにおけるSiHラジカルの測定- / p94 (0104.jp2)
5.1 研究の背景と目的 / p94 (0104.jp2)
5.2 従来技術とその問題点 / p98 (0108.jp2)
5.3 プラズマ中ラジカル検出へのレーザ誘起蛍光法の適用 / p100 (0110.jp2)
5.4 レーザ誘起蛍光法によるSiH密度分布形状の測定 / p106 (0116.jp2)
5.5 発光分光法データのAbel逆変換 / p109 (0119.jp2)
5.6 発光分光法データのAbel逆変換よる[化学式]密度分布形状の産出 / p114 (0124.jp2)
5.7 SiHおよび[化学式]密度分布の基板温度依存性測定への応用 / p118 (0128.jp2)
5.8 第5章のまとめ / p130 (0140.jp2)
〔第5章の参考文献〕 / p132 (0142.jp2)
第6章 結論 / p135 (0145.jp2)
〔謝辞〕 / p140 (0150.jp2) - URL
- https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3089246
https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3089246/1
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