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Al[2]O[3]/Si構造形成における成長材料の励起及び界面制御に関する研究

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目次・巻号

  • Al[2]O[3]/Si構造形成における成長材料の励起及び界面制御に関する研究 [79]
    • 論文要旨
    • 目次
    • 第1章 序論/p1
    • 1-1 SOI構造の特徴と形成技術/p1
    • 1-2 エピタキシャルAl₂O₃薄膜を用いたSOI構造の形成/p6
    • 1-3 絶縁膜・半導体ヘテロ構造のその他の応用/p12
    • 1-4 本研究の目的と概要/p14
    • 参考文献/p16
    • 第2章 有機金属分子線エピタキシー及び評価技術/p18
    • 2-1 有機金属分子線エピタキシー/p18
    • 2-2 成長薄膜の評価技術/p21
    • 参考文献/p29
    • 第3章 酸素ラジカル分子線を用いたSi表面の酸化過程/p30
    • 3-1 緒言/p30
    • 3-2 Si表面の酸化に関するこれまでの研修/p31
    • 3-3 酸素ラジカルとSi表面の反応実験/p35
    • 3-4 緒言/p47
    • 参考文献/p49
    • 第4章 酸素ラジカルとTMAによるAl₂O₃/Si構造の成長/p50
    • 4-1 緒言/p50
    • 4-2 酸素ラジカルを用いた成長実験/p51
    • 4-3 酸素ラジカルを用いた成長結果及び考察/p53
    • 4-4 酸素ラジカルを用いた場合の成長モデル/p60
    • 4-5 光励起による成長と酸素ラジカルを用いた成長との比較/p62
    • 4-6 結言/p67
    • 参考文献/p68
    • 第5章 成長初期における界面制御の効果/p69
    • 5-1 緒言/p69
    • 5-2 通常のMOMBE法における成長手順と膜質の関係/p69
    • 5-3 酸素励起MOMBE法における界面制御の効果/p70
    • 5-4 Al₂O₃膜及びSi基板表面における酸素ラジカルの効果/p79
    • 5-5 結言/p86
    • 参考文献/p87
    • 第6章 ジメチルエチルアミンアランによるAl/Siの成長/p88
    • 6-1 緒言/p88
    • 6-2 ジメチルエチルアミンアラン/p89
    • 6-3 DMEAAによるAl/Siの成長方法/p92
    • 6-4 Al膜の成長結果と考察/p92
    • 6-5 結言/p103
    • 参考文献/p105
    • 第7章 ジメチルエチルアミンアランによるAl₂O₃/Siの成長/p106
    • 7-1 緒言/p106
    • 7-2 成長方法及び条件/p106
    • 7-3 DMEAAを用いて成長したAl₂O₃膜の評価/p107
    • 7-4 成長温度とAl源、酸化源との関係/p116
    • 7-5 結言/p117
    • 参考文献/p119
    • 第8章 反応性スパッタリング法によるAl₂O₃/Siの成長/p120
    • 8-1 諸言/p120
    • 8-2 成長装置及び成長方法/p120
    • 8-3 反応性スパッタリングにより成長したAl₂O₃膜の評価/p122
    • 8-4 反応性スパッタリングによるAl₂O₃膜の成長モデル/p126
    • 8-5 結言/p127
    • 参考文献/p128
    • 第9章 総括/p129
    • 謝辞/p133
    • 研究業績一覧/p134

書誌情報

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https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3132110/1

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