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Al予備堆積法の導入による薄膜ヘテロエピタキシャルSOI構造に関する研究

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目次・巻号

  • Al予備堆積法の導入による薄膜ヘテロエピタキシャルSOI構造に関する研究 [92]
    • 論文要旨
    • 目次/p1
    • 第1章 序論/p1
    • 1.1 SOI構造とその特徴/p1
    • 1.2 SOI構造形成技術/p5
    • 1.3 Si、Al₂O₃エピタキシャル成長とSOI構造形成/p7
    • 1.4 絶縁膜・半導体ヘテロ構造のその他の応用/p11
    • 1.5 本研究の目的/p12
    • 参考文献/p14
    • 第2章 成長方法、材料および評価技術/p19
    • 2.1 緒言/p19
    • 2.2 分子線エピタキシー法(MBE法)/p20
    • 2.3 γ-Al₂O₃成長ソース源/p23
    • 2.4 γ-Al₂O₃及び卜γ-Al₂O₃/Si構造/p26
    • 2.5 各種測定装置の原理/p29
    • 参考文献/p42
    • 第3章 混成ソースMBE法によるγ-Al₂O₃成長/p45
    • 3.1 緒言/p45
    • 3.2 実験装置/p46
    • 3.3 化学洗浄法/p49
    • 3.4 γ-Al₂O₃成長/p51
    • 3.5 まとめ/p59
    • 参考文献/p61
    • 第4章 γ-Al₂O₃膜の成長様式の観察及び2段階成長/p63
    • 4.1 緒言/p63
    • 4.2 γ-Al₂O₃膜の成長様式の観察/p64
    • 4.3 γ-Al₂O₃の2段階成長/p77
    • 4.4 まとめ/p81
    • 参考文献/p82
    • 第5章 Si基板上に保護酸化膜を用いた極薄膜Al₂O₃の形成/p83
    • 5.1 緒言/p83
    • 5.2 γ-Al₂O₃表面のモフォロジー/p84
    • 5.3 化学洗浄および熱処理法の改良/p86
    • 5.4 アルミナ予備層の形成方法/p89
    • 5.5 アルミナ予備層の評価/p89
    • 5.6 まとめ/p99
    • 参考文献/p100
    • 第6章 γ-Al₂O₃上へのAl予備堆積層を用いたSi成長/p101
    • 6.1 緒言/p101
    • 6.2 実験装置/p103
    • 6.3 実験条件/p105
    • 6.4 γ-Al₂O₃上へのAl堆積/p105
    • 6.5 γ-Al₂O₃上へのSi成長/p109
    • 6.6 熱処理温度依存性/p119
    • 6.7 Al予備堆積層を用いたSi成長のモデル/p121
    • 6.8 まとめ/p123
    • 参考文献/p125
    • 第7章 γ-Al₂O₃上へのAl予備堆積層を用いたSi成長の最適化/p127
    • 7.1 緒言/p127
    • 7.2 実験装置および方法/p128
    • 7.3 高流量成長/p131
    • 7.4 低流量成長/p136
    • 7.5 まとめ/p140
    • 参考文献/p141
    • 第8章 総括/p143
    • 謝辞/p147
    • 付録A/p149
    • 付録B/p153
    • 付録C/p155
    • 参考文献/p161
    • 本研究に関する発表論文/p163

書誌情報

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https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3156231/1

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