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ウェットプロセスによる鉄基アモルファス合金薄膜の形成とマイクロ磁気弾性デバイスへの応用

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目次・巻号

  • ウェットプロセスによる鉄基アモルファス合金薄膜の形成とマイクロ磁気弾性デバイスへの応用 [113]
    • 論文要旨
    • 目次/p1
    • 第1章 序論/p1
    • §1.1 本研究の背景と目的/p1
    • §1.2 本研究の概要と論文の構成/p10
    • §1.3 ウエットプロセスの種類と成膜原理/p17
    • §1.4 ウエットプロセスを用いたアモルファス合金薄膜の作製に関するこれまでの研究/p21
    • §1.5 ウエットプロセスで作製した鉄基アモルファス合金薄膜の評価方法/p27
    • 第1章の参考文献/p28
    • 第2章 化学還元反応を用いた鉄基アモルファス合金のウェット成膜/p32
    • §2.1 はじめに/p32
    • §2.2 化学還元反応を用いたアモルファスFe-B合金薄膜の形成/p34
    • §2.3 薄液膜法を用いたアモルファスFe-B合金薄膜の形成/p42
    • §2.4 まとめ/p49
    • 第2章の参考文献/p51
    • 第3章 局部電池反応を用いた鉄基アモルファス合金のウエット成膜/p52
    • §3.1 はじめに/p52
    • §3.2 局部電池反応を用いたアモルファスFe-B合金薄膜の形成/p53
    • §3.3 まとめ/p70
    • 第3章の参考文献/p71
    • 第4章 電気化学反応を用いた鉄基アモルファス合金のウエット成膜/p72
    • §4.1 はじめに/p72
    • §4.2 電気化学反応を用いたアモルファスFe-B合金薄膜の形成/p76
    • §4.3 アモルファスFe-B合金薄膜の磁気特性の改善/p84
    • §4.4 アモルファスFe-Co-B三元系合金薄膜の形成/p99
    • §4.5 磁界中電析法による誘導磁気異方性の制御/p106
    • §4.6 まとめ/p113
    • 第4章の参考文献/p115
    • 第5章 鉄基アモルファス合金電析膜の評価と膜形成機構/p117
    • §5.1 はじめに/p117
    • §5.2 鉄基アモルファス合金電析膜の評価/p118
    • §5.3 鉄基アモルファス合金電析膜の膜形成機構/p135
    • §5.4 まとめ/p149
    • 第5章の参考文献/p151
    • 第6章 ウエットプロセスで形成した鉄基アモルファス合金薄膜のマイクロ磁気弾性デバイスへの応用/p153
    • §6.1 はじめに/p153
    • §6.2 ウエットプロセスによる微細パターンへの成膜技術を応用した歪センサの作製/p156
    • §6.3 ウエットプロセスによる立体構造物への成膜技術を応用したトルクセンサの作製/p166
    • §6.4 まとめ/p179
    • 第6章の参考文献/p181
    • 第7章 総括/p183
    • §7.1 研究成果の概要/p183
    • §7.2 今後の展望/p189
    • 第7章の参考文献/p191
    • 謝辞/p192
    • 研究業績/p195

書誌情報

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https://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3162224/1

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